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计算鸢尾花192的曝光时间的程序

该程序的开发是为了计算使用电离辐射虹膜192的工业来源进行射线照相检查的暴露时间。

计算曝光时间集:

- CI的当前活动

- 毫米的辐射厚度;

- mm中的焦距。

并选择膜的类型,变黑密度和受控材料。

如果输入源数据,则自动计算当前活动:初始活动和估计的收据日期。您可以指定该程序中的五个来源。

知道虹膜192同位素的半衰期,即74.4天,计算了当前活动。

使用有关受控对象(标准尺寸,焊接关节类别)的已知数据,可以计算焦距以及受控区域的数量。

如果您发现任何错误或对该程序的进一步开发有任何建议,请通过电子邮件写信给我。

暴露时间计算是实验性的,可能不符合您的规格。

(由Google翻译翻译的文字)

最新版本1.12中的新功能

上次更新于2024年9月19日,新版本的更改列表:
- 固定计算曝光时间,如果在设置中选择了活动GBK单位
- 现在计算的时间如旧应用中,对不同密度的固定计算固定计算
如果发现错误,请通过电子邮件写信给我