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計算鳶尾花192的曝光時間的程序

該程序的開發是為了計算使用電離輻射虹膜192的工業來源進行射線照相檢查的暴露時間。

計算曝光時間集:

- CI的當前活動

- 毫米的輻射厚度;

- mm中的焦距。

並選擇膜的類型,變黑密度和受控材料。

如果輸入源數據,則自動計算當前活動:初始活動和估計的收據日期。您可以指定該程序中的五個來源。

知道虹膜192同位素的半衰期,即74.4天,計算了當前活動。

使用有關受控對象(標準尺寸,焊接關節類別)的已知數據,可以計算焦距以及受控區域的數量。

如果您發現任何錯誤或對該程序的進一步開發有任何建議,請通過電子郵件寫信給我。

暴露時間計算是實驗性的,可能不符合您的規格。

(由Google翻譯翻譯的文字)

最新版本1.12中的新功能

上次更新於2024年9月19日,新版本的更改列表:
- 固定計算曝光時間,如果在設置中選擇了活動GBK單位
- 現在計算的時間如舊應用中,對不同密度的固定計算固定計算
如果發現錯誤,請通過電子郵件寫信給我